-
Керамические запасные части для полупроводникового зондового оборудования
Керамические запасные части, изготовленные методом холодного изостатического прессования и спеченные при высокой температуре, а затем подвергнутые прецизионной механической обработке и полировке, благодаря своим характеристикам износостойкости, коррозионной стойкости, низкого теплового расширения и изоляционных свойств, могут соответствовать любым строгим требованиям полупроводникового оборудования. Керамика может длительное время работать во многих видах полупроводникового оборудования в условиях высоких температур, вакуума или агрессивных газов.
Изготовленный из высокочистого порошка оксида алюминия, обработанного методом холодного изостатического прессования, высокотемпературного спекания и прецизионной обработки, он может достигать допуска по размерам ±0,001 мм, чистоты поверхности Ra 0,1 и термостойкости 1600℃.
-
Керамические пластинчатые полупроводниковые компоненты
Керамические запасные части, изготовленные методом холодного изостатического прессования и спеченные при высокой температуре, а затем подвергнутые прецизионной механической обработке и полировке, благодаря своим характеристикам износостойкости, коррозионной стойкости, низкого теплового расширения и изоляционных свойств, могут соответствовать любым строгим требованиям полупроводникового оборудования. Керамика может длительное время работать во многих видах полупроводникового оборудования в условиях высоких температур, вакуума или агрессивных газов.
Изготовленный из высокочистого порошка оксида алюминия, обработанного методом холодного изостатического прессования, высокотемпературного спекания и прецизионной обработки, он может достигать допуска по размерам ±0,001 мм, чистоты поверхности Ra 0,1 и термостойкости 1600℃.
-
Керамические запасные части для полупроводникового оборудования
Керамические запасные части, изготовленные методом холодного изостатического прессования и спеченные при высокой температуре, а затем подвергнутые прецизионной механической обработке и полировке, благодаря своим характеристикам износостойкости, коррозионной стойкости, низкого теплового расширения и изоляционных свойств, могут соответствовать любым строгим требованиям полупроводникового оборудования. Керамика может длительное время работать во многих видах полупроводникового оборудования в условиях высоких температур, вакуума или агрессивных газов.
Изготовленный из высокочистого порошка оксида алюминия, обработанного методом холодного изостатического прессования, высокотемпературного спекания и прецизионной обработки, он может достигать допуска по размерам ±0,001 мм, чистоты поверхности Ra 0,1 и термостойкости 1600℃.
-
Уплотнительное кольцо из высокочистой оксида алюминия для герметизации высокотемпературных камер.
Керамическое уплотнительное кольцо St.Cera разработано как альтернатива полимерным уплотнительным кольцам в экстремальных условиях, где эластомеры деградируют. Изготовленное из высокочистого оксида алюминия (Al₂O₃) чистотой 99,8%, это жесткое уплотнительное кольцо используется в статических герметизирующих системах — обычно в паре с мягкой металлической или графитовой прокладкой — для обеспечения надежного вакуума или удержания газа при температурах до 800°C и в агрессивных плазменных или химических средах. Материал отличается нулевым выделением газов, высокой прочностью на сжатие (предел прочности на изгиб 361 МПа) и химической инертностью (устойчив к галогенам, кислотам и щелочам, за исключением HF). Прецизионно притертые уплотнительные поверхности (плоскостность ≤5 мкм, шероховатость поверхности Ra ≤0,2 мкм) обеспечивают герметичный контакт с сопрягаемыми металлическими или керамическими компонентами.
-
Фокусирующее кольцо из высокочистого оксида алюминия для плазменного травления и систем химического осаждения из газовой фазы.
Фокусирующее кольцо камеры St.Cera — это важнейший компонент технологического комплекта, используемый в оборудовании для плазменного травления, CVD и PVD полупроводников. Изготовленное из высокочистого оксида алюминия (Al₂O₃) с чистотой 99,8%, кольцо окружает край пластины, ограничивая плазму и оптимизируя угловое распределение ионов, тем самым улучшая равномерность травления по всей поверхности пластины. Материал обладает исключительной устойчивостью к плазме, высокой диэлектрической прочностью (15×10⁶ В/м) и термической стабильностью до 1600 °C, обеспечивая долговременную надежность в агрессивных плазменных средах на основе фтора или хлора. Точная шлифовка внутреннего и внешнего диаметров и плоскостности (≤10 мкм) обеспечивает точное позиционирование края пластины, уменьшая дефекты кромок и образование частиц.
-
Керамическое кольцо из высокочистого оксида алюминия для камер процесса CVD/PVD.
Керамическое кольцо St.Cera специально разработано для использования в камерах процессов CVD (химическое осаждение из паровой фазы) и PVD (физическое осаждение из паровой фазы). Изготовленное из высокочистого оксида алюминия (Al₂O₃) чистотой 99,8%, это кольцо служит в качестве облицовки камеры, фокусирующего кольца или компонента технологического комплекта для удержания плазмы и защиты стенок камеры от эрозии. Материал обладает превосходной плазмостойкостью, высокой диэлектрической прочностью (15×10⁶ В/м) и термической стабильностью до 1600°C, что обеспечивает длительный срок службы в агрессивных средах фторсодержащих плазменных растворов. Точные допуски по размерам (±0,05 мм по внутреннему/внешнему диаметру) и плоскостности (≤10 мкм) обеспечивают стабильное позиционирование краев пластины, улучшая равномерность осаждения и уменьшая образование частиц.
-
Керамический концевой захват Бернулли — бесконтактная обработка тонких и хрупких пластин.
Керамический концевой захват Бернулли от St.Cera использует аэродинамическую подъемную силу для бесконтактной обработки пластин. Изготовленный из высокочистого 99,8% оксида алюминия (Al₂O₃) или карбида кремния (SiC), он оснащен прецизионно обработанными соплами, которые подают сжатый газ, создавая тонкую воздушную пленку между концевым захватом и пластиной. Этот бесконтактный принцип исключает загрязнение обратной стороны, сколы по краям и повреждение поверхности, что делает его идеальным для тонких (≤100 мкм), хрупких или деформированных пластин. Керамическая подложка обеспечивает высокую прочность на изгиб (361 МПа для Al₂O₃; до 550–600 МПа для SiC), малую массу и превосходную стабильность размеров, гарантируя повторяемое позиционирование в высокоскоростных роботах для переноса пластин.
-
Высокочистые керамические детали из оксида алюминия для полупроводниковой и промышленной отраслей.
Компания St.Cera производит прецизионно обработанные керамические детали из оксида алюминия (Al₂O₃) по спецификациям заказчика. Используя высокочистый оксид алюминия (99,8%), эти компоненты обладают превосходной прочностью на изгиб (361 МПа), высокой твердостью (16 ГПа) и выдающейся диэлектрической прочностью (15×10⁶ В/м). Разработанный для полупроводникового оборудования, износостойких узлов, электрических изоляторов и высокотемпературных приспособлений, этот материал имеет практически нулевое водопоглощение (0%) и коэффициент теплового расширения 7,2×10⁻⁶/℃, обеспечивая стабильность размеров в экстремальных условиях.
-
Пористый керамический вакуумный зажим для работы с деформированными пластинами.
Пористый керамический зажим St.Cera изготовлен из высокочистого оксида алюминия с равномерной открытой пористостью 30–45% и размерами пор от 10 до 100 мкм. В отличие от обычных зажимов с канавками, пористая поверхность обеспечивает равномерное вакуумное воздействие по всей обратной стороне пластины, эффективно удерживая деформированные, тонкие или отдельные пластины без отслаивания краев или поломки. Мягкий вакуум (регулируемый с помощью ограничителя) также предотвращает появление следов на обратной стороне.
-
Вакуумный зажим из пористой керамики на основе оксида алюминия для работы с тонкими пластинами.
Пористая подставка на основе оксида алюминия от компании St.Cera изготовлена из высокочистого Al₂O₃ (99,6%) с контролируемой открытой пористостью 30–45% и равномерным размером пор от 10 до 50 мкм. В отличие от подставок с канавками, пористая поверхность обеспечивает равномерное распределение вакуума по всей обратной стороне пластины, устраняя следы от кромок и позволяя бережно удерживать сверхтонкие (≤100 мкм) или деформированные пластины. Материал обладает прочностью на изгиб ≥250 МПа и термической стабильностью до 400 °C на воздухе.
-
Газораспределительная пластина из оксида алюминия для душевой лейки, изготовленной методом CVD/PVD.
Газораспределительная пластина (насадка для душа) компании St.Cera изготовлена методом высокоточной механической обработки из высокочистой 99,8% оксида алюминия. Она имеет массив микроотверстий (диаметром 0,3–1,5 мм), обеспечивающих равномерный поток газа по поверхности пластины во время процессов CVD, PVD или ALD. Высокая диэлектрическая прочность пластины (>15×10⁶ В/м) и сопротивление плазме делают ее незаменимой для осаждения полупроводниковых тонких пленок.
-
Керамический опорный штифт для оснастки в полупроводниковых процессах
Керамические опорные штифты St.Cera (также известные как подъемные штифты или опорные штифты) используются в камерах для обработки полупроводниковых материалов для приподнимания пластин или подложек во время обработки, нагрева или охлаждения. Изготовленные из 99,8% оксида алюминия или нитрида кремния, эти штифты обладают высокой прочностью на сжатие, термической стабильностью и химической стойкостью. Полусферическая или плоская форма наконечника предотвращает царапание пластин.
